图书介绍

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半导体材料的分析
  • 冶金工业部科学技术情报产品标准研究所编 著
  • 出版社: 北京:科学出版社
  • ISBN:13031·2297
  • 出版时间:1966
  • 标注页数:89页
  • 文件大小:4MB
  • 文件页数:95页
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图书目录

目录1

第一章 高纯硅及其化合物的分析1

§1-1 纯硅和二氧化硅中微量杂质的化学光谱测定1

§1-2 高纯硅、二氧化硅、石英、四氯化硅、三氯硅烷中痕量杂质的化学光谱测定3

§1-3 三氯硅烷中痕量杂质的化学光谱测定7

§1-4 三氯硅烷中痕量镉、铟、铅、铜、铋的汞齐极谱测定10

§1-5 三氯硅烷和四氯化硅中痕量硼的化学光谱测定(Ⅰ)12

§1-6 三氯硅烷中痕量硼的化学光谱测定(Ⅱ)15

§1-7 三氯硅烷含量的测定17

第二章 高纯锗和二氧化锗的分析21

§2-1 二氧化锗中痕量杂质的化学光谱测定21

§2-2 二氧化锗中痕量硼的化学光谱测定25

§2-3 二氧化锗中微量硼的比色测定28

§2-4 二氧化锗中微量硅的测定30

Ⅰ.目视比色法30

Ⅱ.萃取光度法31

§2-5 二氧化锗中痕量砷的测定33

§2-6 锗及二氧化锗中痕量锑的测定35

§2-7 二氧化锗中痕量钠的测定37

第三章 高纯镓、砷及其化合物的分析39

§3-1 高纯镓中痕量杂质的化学光谱测定39

§3-2 高纯镓中痕量金的比色测定41

§3-3 高纯镓中痕量铁的比色测定43

§3-4 高纯砷及其化合物中痕量杂质的化学光谱测定44

§3-5 高纯砷中痕量杂质的化学光谱测定47

§3-6 高纯砷中痕量锑的比色测定50

§3-7 高纯砷中痕量硒的比色测定51

§3-8 高纯砷中硫的散射浊度法测定53

§3-9 高纯砷和三氯化砷中痕量碲的示波极谱测定54

§3-10 高纯砷和氧化砷中痕量锡的化学光谱测定56

§3-11 高纯镓、砷和氧化砷中痕量硫的比色测定58

§3-12 高纯镓、砷和氧化砷中痕量汞的化学光谱测定60

§3-13 高纯镓、砷和砷化镓中痕量硅的比色测定63

§3-14 砷化镓中痕量杂质的化学光谱测定66

§3-15 砷化镓中碲的方波极谱测定68

第四章 高纯铟的分析70

§4-1 高纯铟中痕量杂质的化学光谱测定70

§4-2 高纯铟中锑、镓、铊、金、铁的化学光谱测定72

Ⅰ.高纯石墨中微量杂质的化学光谱测定76

附录1 高纯石墨的分析76

Ⅱ.高纯石墨中痕量硼的光谱测定78

Ⅲ.高纯石墨中痕量硼的化学光谱测定80

附录2 几种试剂的提纯84

Ⅰ.水84

Ⅱ.盐酸84

Ⅲ.硝酸86

Ⅳ.氢氟酸86

Ⅴ.氢溴酸87

Ⅵ.高氯酸87

Ⅶ.氢氧化铵88

Ⅷ.溴89

Ⅸ.异丙醚89

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