图书介绍
半导体器件概论【2025|PDF|Epub|mobi|kindle电子书版本百度云盘下载】
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- 李卫,吴涓涓等合编 著
- 出版社: 北京:北京理工大学出版社
- ISBN:7810132512
- 出版时间:1989
- 标注页数:161页
- 文件大小:9MB
- 文件页数:169页
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图书目录
第一章 绪论1
§1-1 什么是半导体1
目录1
§1-2 常见的半导体材料及其主要用途2
§1-3 认识和应用半导体的历史3
§1-4 半导体材料的提纯与单晶生长7
建议阅读材料9
第二章 半导体的模型10
§2-1 半导体的共价结合10
§2-3 杂质的作用13
§2-4 能带的形成14
§2-5 能带模型中的电子与空穴16
§2-6 杂质能级18
§2-7 复合中心20
§2-8 多子、少子浓度间的重要关系20
§2-9 金属、半导体、绝缘体的区别22
练习题与思考题22
建议阅读材料23
第三章 半导体中的载流子24
§3-1 漂移电流24
§3-2 迁移率25
§3-3 电阻率和电导率25
§3-4 影响迁移率的因素27
§3-5 迁移率与电场强度的关系30
§3-6 载流子的扩散与扩散电流30
§3-7 爱因斯坦关系31
§3-8 漂移与扩散同时存在的情形32
§3-9 计算载流子浓度的基本方法33
§3-10 函数S(E)和(E)34
§3-11 电子浓度与空穴浓度的计算37
§3-12 费米能级的位置39
§3-13 关于费米能级的若干说明43
练习题与思考题44
建议阅读材料45
第四章 P-N结46
§4-1 P-N结的电流-电压关系及其定性解释46
§4-2 P-N结的能带图及内建电势差的计算48
§4-3 P-N结的电流-电压关系的定量分析49
§4-4 少子的复合与扩散52
§4-5 P-N结的扩散电流56
§4-6 对理想情况的几点修正59
§4-7 P-N结的电容效应61
§4-8 P-N结的击穿67
练习题与思考题70
建议阅读材料72
附录一 关于小注入条件与基本假设①的关系72
附录二 对非平衡状态下仍使用玻耳兹曼分布函数的说明73
第五章 金属与半导体的接触75
§5-1 金-半接触的接触电势差——肖特基势垒的形成75
§5-2 金-半接触的整流特性78
§5-3 金-半接触的少子注入80
§5-4 欧姆接触81
练习题与思考题82
建议阅读材料82
第六章 结型晶体管83
§6-1 晶体管的描述83
§6-2 与晶体管内部载流子的传输过程有关的几个参数85
§6-3 理想晶体管的各端电流与外加极间电压的关系88
§6-4 Ebers-Moll模型94
§6-5 晶体管的特性曲线96
§6-6 晶体管的运用特性100
练习题与思考题109
建议阅读材料109
第七章 场效应晶体管110
§7-1 结型场效应晶体管的基本结构与工作原理110
§7-2 源-漏间电流-电压关系的定性说明111
§2-2 电子与空穴本征激发112
§7-3 结型场效应晶体管的特性曲线族与参数114
§7-4 MIS结构中的电场效应——电场对半导体表面的影响115
§7-5 电场效应的应用——MOS场效应晶体管工作原理的说明119
§7-6 MOS场效应晶体管的特性及参数121
§7-7 增强型与耗尽型MOS场效应晶体管123
练习题与思考题124
建议阅读材料125
§8-1 双极型逻辑集成电路126
第八章 半导体集成电路126
§8-2 集成电路的设计128
§8-3 MOS集成电路130
建议阅读材料132
附录 肖特基势垒二极管132
第九章 平面工艺简介133
§9-1 平面工艺简介133
§9-2 TTL电路的典型工艺流程136
§9-3 MOS集成电路的工艺流程137
建议阅读材料138
第一部分 功率器件140
§1 可控硅整流器140
补充材料 其他半导体器件简介140
§2 可控硅整流器的工作原理141
§3 可控硅整流器应用说明142
§4 单结晶体管143
第二部分 微波器件146
§1 雪崩二极管146
§2 体效应二极管148
第三部分 光电器件153
§1 光电导体153
§2 光照下的P-N结154
§3 半导体发光现象157
第四部分 敏感器件158
§1 磁敏器件158
§2 热敏器件159
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