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第1章 绪论1

1.1 引言1

1.2 钼基高温抗氧化涂层的性能要求2

1.3 钼基高温抗氧化涂层的研究现状3

1.3.1 涂层体系3

1.3.2 涂层结构5

1.3.3 涂层的制备工艺7

1.4 二硅化钼基涂层10

1.4.1 二硅化钼概述10

1.4.2 二硅化钼的氧化性能11

1.4.3 二硅化钼涂层的制备方法12

1.4.4 二硅化钼作为涂层材料应用的限制12

1.4.5 硼化钼层14

1.5 研究思路和主要研究内容16

第2章 实验方案与方法17

2.1 实验材料17

2.2 实验仪器17

2.3 制备方法18

2.3.1 大气等离子喷涂法18

2.3.2 原位化学气相沉积法19

2.4 样品表征20

2.4.1 形貌结构和成分表征20

2.4.2 性能表征20

第3章 大气等离子喷涂制备二硅化钼涂层23

3.1 引言23

3.2 实验过程23

3.2.1 基体材料的准备23

3.2.2 大气等离子喷涂粉末的制备24

3.2.3 大气等离子喷涂制备二硅化钼涂层24

3.3 自蔓延高温合成二硅化钼粉末特性24

3.4 团聚球形二硅化钼粉末的制备25

3.4.1 雾化造粒后二硅化钼粉末的特性26

3.4.2 热处理后的团聚二硅化钼粉末27

3.5 二硅化钼涂层的制备29

3.5.1 喷涂工艺参数对二硅化钼涂层组织和结构的影响30

3.5.2 喷涂工艺对二硅化钼涂层性能的影响34

3.5.3 关键等离子喷涂参数（CPSP）对涂层结合强度的影响39

3.5.4 调整喷涂工艺后二硅化钼涂层的特性40

3.6 二硅化钼涂层的抗氧化性能42

3.7 本章小结42

第4章 原位化学气相沉积法制备硼化钼涂层45

4.1 引言45

4.2 实验过程45

4.2.1 基体材料的准备45

4.2.2 硼化钼涂层的制备46

4.3 原位化学气相沉积法制备硼化钼涂层47

4.3.1 不同工艺条件对MoB涂层相组成的影响47

4.3.2 不同工艺条件下制备的MoB涂层的组织形貌50

4.4 硼化钼涂层的成长动力学研究52

4.4.1 活化剂的含量对硼化钼层成长的影响规律52

4.4.2 沉积时间对硼化钼层成长的影响规律52

4.4.3 沉积温度对硼化钼层成长的影响规律54

4.4.4 硼的含量对硼化钼层成长的影响规律55

4.5 硼化钼涂层的性能55

4.5.1 力学性能55

4.5.2 氧化性能56

4.6 本章小结59

第5章 原位化学气相沉积法制备二硅化钼/硼化钼复合涂层60

5.1 引言60

5.2 实验方法61

5.2.1 基体的准备61

5.2.2 MoSi2涂层的制备61

5.2.3 MoSi2/MoB复合涂层的制备62

5.3 二硅化钼涂层64

5.4 二硅化钼/硼化钼复合涂层68

5.5 二硅化钼涂层成长的动力学研究71

5.5.1 二硅化钼涂层的成长模型71

5.5.2 沉积工艺条件与二硅化钼涂层成长速率之间的关系77

5.6 二硅化钼/硼化钼复合涂层成长的动力学研究80

5.6.1 沉积时间对在硼化钼层上制备的二硅化钼涂层成长的影响规律80

5.6.2 沉积温度对在硼化钼层上制备的二硅化钼涂层成长的影响规律80

5.7 二硅化钼/硼化钼复合涂层的力学性能82

5.8 本章小结82

第6章 二硅化钼/硼化钼复合涂层的氧化性能和涂层中硅元素扩散84

6.1 引言84

6.2 实验方法85

6.2.1 基体的准备85

6.2.2 二硅化钼涂层和二硅化钼/硼化钼复合涂层的制备86

6.3 二硅化钼/硼化钼复合涂层的氧化性能研究86

6.3.1 氧化动力学研究86

6.3.2 氧化产物分析89

6.3.3 氧化后二硅化钼单层和二硅化钼/硼化钼复合涂层的截面形貌与组成91

6.4 涂层中硅元素的扩散97

6.4.1 中间硅化物的成长机制97

6.4.2 中间硅化物的成长速率99

6.5 本章小结101

参考文献102